先进位置编码器技术提升光刻工艺水平

发布时间：2019-05-06 15:31 来源：机经网

关键词：位置编码器光刻工艺光栅技术近场扫描光刻雷尼绍

摘要：先进的光栅技术可满足光刻工艺苛刻的高精度、重复性和稳定性要求。对于某些反馈应用，机器设计人员应考虑紧凑型先进光栅解决方案是否能够替代传统的干涉测量激光尺系统。鉴于无掩模光刻技术的进步，有朝一日可能不会再需要光掩模的多重曝光，但未来对测量性能的要求一定不会降低。

(责编：yangbo)

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